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MARC状态:已编  文献类型:中文图书 浏览次数:8 

题名/责任者:
设计素描/编著张立学, 陈伟, 刘朝晖
出版发行项:
武汉:湖北美术出版社,2006
ISBN及定价:
7-5394-1861-3/CNY28.00
载体形态项:
112页:图;29cm
丛编项:
21世纪高职高专艺术设计专业教材;1
个人责任者:
张立学 编著
个人责任者:
陈伟 编著
个人责任者:
刘朝晖 编著
学科主题:
素描-技法(美术)-高等教育-教材
中图法分类号:
J214
书目附注:
有书目 (第112页)
提要文摘附注:
本丛书涵盖了艺术设计学科各专业课程,强调学生实际应用能力的双向培养,注重体现实际应用能力的培养过程,具有较强的针对性和实用性。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 附件 说明 书刊状态 还书位置
J214/70#1 000153220   南校区分馆 图书定位    可借
J214/70#1 000155215   南校区分馆 图书定位    可借
J214/70#1 000153219   密集书库 M00121948 图书定位    可借 密集书库
J214/70#1 000153222   密集书库 M00121946 图书定位    可借 密集书库
J214/70#1 000155216   密集书库 M00121947 图书定位    可借 密集书库
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