MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：21
- 题名/责任者:
- 黑客与设计:剖析设计之美的秘密/(美) David Kadavy著 苑永凯译
- 出版发行项:
- 北京:人民邮电出版社,2014.4
- ISBN及定价:
- 978-7-115-34537-0/CNY79.00
- 载体形态项:
- 214页:彩图;23cm
- 其它题名:
- 剖析设计之美的秘密
- 丛编项:
- 图灵交互设计丛书
- 个人责任者:
- 卡达维 (Kadavy, David) 著
- 个人次要责任者:
- 苑永凯 译
- 学科主题:
- 网页-设计
- 中图法分类号:
- TP393.092
- 中图法分类号:
- TP393.092
- 出版发行附注:
- 本书中文简体字版由John Wiley & Sons, Inc.授权人民邮电出版社独家出版
- 责任者附注:
- 责任者规范汉译姓: 卡达维
- 提要文摘附注:
- 本书面向对于视觉艺术及技巧并不熟稔的软件开发人员, 用心拾取艺术史上的众多知名概念及代表作品加以细致解读, 并辅以多视角的延展剖析, 以期使读者洞彻与把握现今设计概念和技巧的来源及趋势, 从而将之更好地融合于业务实践中。本书题材广泛, 实例丰富, 实为一本不可多得的Web及移动应用设计指南。
- 使用对象附注:
- 适合Web及移动应用的开发人员与设计师阅读
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