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MARC状态:审校  文献类型:中文图书 浏览次数:17 

题名/责任者:
从创作到临摹/沃兴华著
版本说明:
修订本
出版发行项:
上海:上海古籍出版社,2020
ISBN及定价:
978-7-5325-9571-6/CNY58.00
载体形态项:
241页:图;29cm
丛编项:
沃兴华书法论著集
个人责任者:
沃兴华 (1955-) 著
学科主题:
汉字-书法-文集
中图法分类号:
J292.1-53
中图法分类号:
J292.1
责任者附注:
沃兴华,1955年生于上海,复旦大学文博系教授,博士生导师,工草书。著有《中国书法史》《敦煌书法研究》等三十余种。主编《中国书法全集·秦汉简牍帛书》、教育部书法教材等。
提要文摘附注:
对一个学书者而言,经历了大量以肖似为尚的临摹之后,便已具备了一定的传统功底和创作能力。这时,学习的重点应当从手的提高转移到心的升华,着力于建立自己的价值判断和意义追求;并根据这种价值判断和意义追求,在名家书法、民间书法乃至古往今来的一切文字遗存中去寻找、去发现,去阐释、去表现,使临摹行为在创作需要的指引下,从一种求知活动变为培养、发展和实现自我的工夫。这样的学习方法即“从创作到临摹”。从临摹到创作,然后再从创作到临摹,这是作者沃兴华先生学习书法的两个阶段,它们是一个连续的发展过程。而这本集子,正好完整地反映了从创作到临摹的探索过程。
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J292.1/265 000881698   五楼书库 图书定位    可借 五楼书库
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